技 術 講 習 会 案 内

パンフレットPDF(293KB)

第６２回日本画像学会技術講習会 −画像の高質化と電子写真プロセス− 〜潜像形成から現像までの課題〜 開催趣旨 　日本画像学会では、電子写真をはじめとする各種ノンインパクトプリンティング技術及びそれに関連する分野の技術者・研究者を対象とした技術講習会を毎年春と秋に開催しております。秋の講習会では、電子写真技術を中心にテーマを設定し、様々な角度から各プロセス要素技術・材料術の基礎や最新の動向をご講演いただいており好評を博しております。電子写真技術は目覚しい進化を遂げていますが、画質に関しては他方式に比べて未だ劣っているのが現実です。 　今回の技術講習会では、画質を決定する最上流プロセスという重要な位置にありながら解説されることの少ない帯電・露光と現像に特化し、理想の静電潜像形成のための帯電および露光デバイスの基礎と最新動向、そして、潜像形成から現像プロセスの理論解析と実際の設計についてご講演頂きます。若手技術者の研修や、ベテラン技術者の関連技術整理などに、是非お役立て下さい。 日　時 ： 平成１８年１１月２０日(月)　9：35〜16：45 場　所 ： ぱ・る・るプラザ京都　６階　会議室Ｃ 京都市下京区東洞院通七条下ル東塩小路町６７６番１３ ＴＥＬ（０７５）３５２−７４４４ （ＪＲ京都駅より徒歩すぐ） http://www.mielparque.or.jp/kyt/kyt01.html 対　象 ： ハードコピーおよびその関連分野の技術者 参加費 (消費税込み) ： 会　員    15,000円 （維持会員団体所属者を含む） 学　生    3,000円   非会員    22,000円   懇親会のみ    1,000円   （お申し込み時に日本画像学会に入会される場合には、会員価格でのご参加となりますが、別途年間費8,000円が必要です。） （参加費にはテキスト代、及びプレゼン資料等の入ったＣＤ−Ｒ代を含みます。ＣＤ−Ｒは後日郵送いたします。） 注：維持会員団体所属の方は、１口２名（先着順）までが正会員扱いです。 定　員 ： 150名 (予約枠)定員になり次第締め切らせていただきます。 申込方法 ： 所定の申込書(PDF:9KB, MS Word:36KB) に必要事項を記入してファックスで学会事務局へお送り下さい。（申込書はパンフレット(PDF)にもあります。） 受付確認のファックスを返信した後、請求書、郵便振替用紙、参加証を郵送でお送りします。参加費は、なるべく郵便振替でお支払い下さい。止むを得ない場合は、当日現金、銀行振込も受付けます。銀行振込先は以下の通りです。 三菱東京ＵＦＪ銀行 新宿中央支店 普・3 9 3 5 1 9 2 口座名：日本画像学会 尚、当日止むを得ず受付での申し込みとなる場合、受付にて、正会員の方は会員証を、維持会員団体所属者の方は維持会員証（一口に2枚発行）をご提示下さい。 キャンセル ： キャンセルは前日までです。Faxで事務局までお知らせ下さい。 当日キャンセルは有償（参加費）と致します。 申込み先 ： 〒164-8678東京都中野区本町2-9-5東京工芸大学内 日本画像学会事務局　講習会係 Tel. 03-3373-9576　　Fax 03-3372-4414 主　　　催 ： 日本画像学会 企画・運営 ： 日本画像学会関西支部／第６２回技術講習会実行委員会

プログラム １１月２０日（月）　　　受付　9:00より 時　間 題　目 講　師(敬称略) 内　容 9:40-10:50 帯電プロセス 高画質化に向けた理想の帯電デバイスとは？ キヤノン（株） 竹田　篤志 帯電における高画質のための要因を考えた上で、いくつかの帯電方式について比較を行い、今後の方向性にふれる。 10:50-12:00 光学デバイス（１） 密着型露光デバイスの基礎と画像の高質化 （株）沖ﾃﾞｼﾞﾀﾙｲﾒｰｼﾞﾝｸﾞ 中村　幸夫 密着型露光デバイスの基礎と高画質化のキーとなる光源及び光学系について報告すると共に、最新の密着型露光デバイスの紹介を行う。 12:00-13:00 昼　　食 13:00-14:10 光学デバイス（２） レーザ走査光学系における画像の高質化 富士ゼロックス（株） 篠原　浩一郎 レーザ走査光学系の基礎と高画質化のキーとなる高コントラスト化技術、及び、面発光レーザ(VCSEL)による高密度化技術に関して述べる。 14:10-15:20 感光体デバイス 感光体における潜像形成と高画質化 京セラミタ（株） 石田　英樹 感光体における潜像形成過程と、静電潜像により生じる現像電界を解説し、高画質化に影響する因子を考える。 15:20-15:35 休　　憩 15:35-16:45 現像プロセス 潜像形成との関係からみた理想の現像を湿式、乾式の両面から （株）リコー 沢山　昇 感光体及び光学系の進歩（特にアナログ光学系からデジタル光学系に進歩）したことが、現像方式にどのような変化（発展）を要求し（可能にし）たかを概観する。 日本画像学会 第６２回技術講習会実行委員会 委員長 中居 仁司（ブラザー工業株式会社） 副委員長 西川 禎一（シャープ株式会社） 関西支部長 中山 喜萬（大阪大学） 委　員 秋田 成司（大阪府立大学）、 伊藤　昇（ｺﾆｶﾐﾉﾙﾀﾋﾞｼﾞﾈｽﾃｸﾉﾛｼﾞｰｽﾞ株式会社）、 狩野　篤（京セラミタ株式会社）、 川上 哲哉（京セラ株式会社）、 北岡 義隆（ﾊﾟﾅｿﾆｯｸｺﾐｭﾆｹｰｼｮﾝﾝｽﾞ株式会社）、 佐多 晋一（花王株式会社）、 柴田 幸生（三洋化成工業株式会社）、 高島 祐二（ハイランドテック）、 内藤 裕義（大阪府立大学）、 長江　偉（三菱電機株式会社）、 長山 智男（大阪大学）、 三木 隆司（バンドー化学株式会社） 横山 正明（大阪大学）

会場のご案内

ぱ・る・るプラザ京都　６階　会議室Ｃ JR京都駅烏丸中央口より徒歩３分 TEL075-352-7444