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2012年度 画像4学会合同研究会
「画像形成技術が拓くフレキシブル・プリンテッドエレクトロニクス」
   画像電子学会、日本印刷学会、日本画像学会、日本写真学会の画像4学会は、2012年度合同研究会の理念を「PE・FDの基盤技術の深耕と新たな産業創成」とし、大きな期待と注目をあびているフレキシブル・プリンテッドエレクトロニクスと画像形成技術との接点における材料とプロセスの新たな産業応用について検討する研究会を企画しました。
   講師を含む参加者が自由に情報や意見の交換ができるよう、講演終了後に情報交換会(無料)も設けましたので、奮ってご参加下さいますよう、ご案内申し上げます。
●主 催: (一社)日本写真学会(幹事学会)、(一社) 画像電子学会、(一社)日本印刷学会、(一社)日本画像学会
●日 時: 2012年12月10日(月) 研究会 10:00〜17:30(受付開始:9:30)
情報交換会 17:35〜19:30
●場 所: 国立オリンピック記念青少年総合センター,センター棟4F セミナーホール
東京都渋谷区代々木神園町3番1号
(小田急線参宮橋駅徒歩7分 地下鉄千代田線代々木公園駅徒歩10分)
URL:http://nyc.niye.go.jp/
●参加費: 主催・協賛学会会員10,000円、共催・協賛学会学生5,000円 非会員15,000円 (情報交換会有り、参加費無料)  
*参加費は当日会場でお支払いください。
*共催・協賛学会会員の方は会員証又は学生証等をご提示下さい。
●定 員: 200名
●申込方法: Web上のフォームからお申込みください。
E-mail、Faxによる申し込みも可能です。(氏名、所属、連絡先、会員の有無を明記ください)。
URL: http://www.spstj.org/event/nissya_e_syosai_93.html
E-mail: spstj@pht.t-kougei.ac.jp  FAX:03-3299-5887
●申込締切: 2012年11月16日(金)*定員になり次第締め切らせて頂きます
●会場案内:  
 



講演プログラム
 

10:00-10:05 開会挨拶  画像4学会合同研究会実行委員長
富士フイルム R&D 統括本部 稲垣由夫
【T.応用デバイス】
10:05-10:50 「塗布印刷技術を用いたフレキシブルディスプレイの開発」
ソニー(株)コアデバイス開発本部 ディスプレイデバイス開発部門 野本和正
 近年の有機材料技術,印刷プロセス技術の進化に伴い、ディスプレイ製造工程の大気プロセス、印刷化の検討が進んでいる。今回は、我々が独自に開発した有機半導体材料,印刷技術を用いたフレキシブルな有機ELディスプレイ、電子ペーパーの開発例を紹介する.
【U.低温溶液プロセス適正のある材料:有機半導体】
11:00-11:45 「液晶性を活用した高耐熱性とプロセス適性をあわせもつ可溶性高移動度有機トランジスタ材料の開発」
東京工業大学大学院 理工学研究科附属像情報工学研究所 半那純一
 実用可能な有機トランジスタ材料を実現するためには、高い移動度ばかりでなく、溶液プロセスによる均一かつ平坦な膜形成能、耐熱性などのプロセス適性をあわせもつ材料の開発が不可欠である。本講演では液晶性を活用したこれらのプロセス適性を実現する材料開発の取り組みの基本的なコンセプトと最新の研究結果について紹介する。
11:45-12:30 「低温塗布できる高性能有機半導体単結晶AM-TFT」
大阪大学産業技術研究所 竹谷純一
 基板の上に室温近くの低温で溶液から高移動度有機半導体の単結晶性薄膜を形成する手法と特性について概説する。また、アクティブマトリックス上の多数のTFTを同時に形成し、実際に液晶パネルを駆動した実験についても紹介する。
12:30-13:30    −昼食休憩− 
【V.低温溶液プロセス適性のある材料:無機配線材料】
13:30-14:15 「プリンテッドエレクトロニクスにおける導電配線材料の現状と課題」
(株)アルバックコーポレートセンター ナノパーティクル応用開発部 小田正明
 印刷法により配線、電極形成、接合応用を目指す、広い意味でのプリンテッドエレクトロニクスにおいて、銀ナノ粒子インク、ペーストを用いたグラビア印刷、インクジェット印刷、スクリーン印刷が検討されている。これらの現状と課題について述べる。
14:15-15:00 「印刷法による有機基板上への銅膜形成技術について」 
日立化成工業(株) 筑波総合研究所高機能性材料開発センター 神代 恭
 印刷法で必要な部分にだけ材料を形成する「プリンテッドエレクトロニクス」技術が盛んに研究されています。弊社では有機基板上へ銅膜を形成可能な技術を検討中であり、その概要をご紹介する。
15:00-15:45 「プリンテッドエレクトロニクス電極基盤材料開発とその産業化に向けた取り組み」 
山形大学理学部物質生命化学科 栗原正人
 プリンテッドエレクトロニクスは、次世代のグリーン・イノベーション技術として、その実現に向けた取り組みが世界競争になっている。特に、室温〜100℃以下で低温焼結する銀ナノ微粒子とその高濃度安定分散液/ペーストは、プリンテッドエレクトロニクス用電極基盤材料として,いよいよその実用化が本格化している。一方で、ここにきて、そうした高性能銀ナノ微粒子の低環境負荷(低炭素)・安価・簡便合成に加え、大量合成への課題=「Poor Scalability」の問題が顕在化している.本講演では、「シュウ酸架橋銀アルキルアミン錯体の自己熱分解法」の発明による高性能・高純度銀ナノ微粒子が低炭素化・高収率・安価・簡便・大量合成できる汎用性の高い製造技術と、その産業化に向けた山形大学の取り組み(国内企業18社が参画する新しい産学連携システム)について紹介する。
【W.微細画像形成技術への期待と課題】
15:55-16:40 「インクジェット技術が創るデジタルパタ-ンニングプロセス」 
コニカ ミノルタIJ(株) 開発統括部 Industrial-PT 西 眞一
  プリンテッドエレクトロニクスのために必要な微細パタ-ン描画技術はデジタルインクジェット技術では、インク物性の みならず基板表面処理や後処理などのプロセス技術を最適摺合せで初めて達成できます。それらの難易度及 び課題と改善策について述べる。
16:40-17:25 「乾燥プロセスによる薄膜構造制御」 
東京大学大学院工学系研究科化学システム工学専攻 山口由岐夫
 溶質分子と溶媒分子の相互作用と、乾燥速度のプロセス因子が薄膜構造を決定づける。それに、基板の影響を考慮すると複雑化する。この薄膜構造 がデバイス特性に直結する。乾燥により析出する個体の結晶性や、基板との密着性や、表面ラフネスなど課題は多い。理論と実験からどこまで本質 にせまれるか。
17:35-19:30 「情報交換会」 
 講演終了後、情報交換会をレセプションホールで開催いたします。参加無料ですので、是非最後までご参加下さい
*テーマ及び講師については、予告なく変更する場合がございます。あらかじめご了解願います。
  
  このセミナーは下記の組織で企画されました。
  一般社団法人日本写真学会(幹事学会)会長:小林裕幸
  一般社団法人日本印刷学会会長:佐藤利文
  一般社団法人日本画像学会会長:半那純一
  一般社団法人画像電子学会会長:松本充司
  
  2012年度画像4学会合同研究会実行委員会
  委員長: 稲垣由夫(富士フイルム/写真学会)
  委 員:鈴木博文(ニコン/写真学会)、田口貴雄(凸版印刷/印刷学会)、鶴岡美秋(大日本印刷/印刷学会)、 酒井真理(東京大学/画像学会)、松木眞 (元NTT/画像学会)、深見拓史(インターメディアジャパン/画像電子学会)、原昌司 (富士フイルム/画像電子学会)
  
【問い合わせ】
 〒164-8678 東京都中野区本町2-9-5 東京工芸大学内 
日本写真学会(幹事学会)事務局
E-mail:spstj@pht.t-kougei.ac.jp  Tel:03-3373-0724 FAX:03-3299-5887

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