Japan Hardcopy 2005 Fall Meeting

The Conference of Japan Hardcopy
of the Imaging Society of Japan

第96回日本画像学会研究討論会

日  時 平成17年11月25日(金)  8:50-17:00
場  所 ぱ・る・るプラザ京都 5F会議室A
京都市下京区東洞院通七条下ル東塩小路町676番13
Tel (075)-352-7444

プ ロ グ ラ ム

プログラム[PDF版]
(第60回日本画像学会技術講習会簡易プログラム含む)

開会挨拶(8:50-9:00)日本画像学会会長
一般講演(9:00-10:20)座 長  中居 仁司
o-1カラーIH定着器の加熱幅制御技術
 パナソニック コミュニケーションズ株式会社  安田昭博、谷繁満、馬場弘一、醒井雅裕
o-2二成分電子写真システムの現像剤流動挙動の大規模粒子要素法シミュレーション
 同志社大学  松岡慶宏、三尾浩、下坂厚子、白川善幸、日高重助
o-3DEMの高速化・大規模化と電子写真システムへの応用
 株式会社けいはんな、*同志社大学  三尾浩、松岡慶宏*、下坂厚子*、白川善幸*、日高重助*
o-42,9-ジクロロキナクリドンの黒色相の電子構造
 横浜国立大学  千住孝俊、西村直子、法貴智則、水口仁
休 憩(10:20-10:30) 
一般講演(10:30-11:30)座 長  横山 正明
o-5静電インクジェット現象における液滴滴下制御
 早稲田大学  中澤良亮、梅津信二郎、川本広行
o-6インクジェット画像の高堅牢化に関する検討(3)
 キヤノン株式会社  山本高夫、小嶋洋二郎、荻野博幸
o-7カラー電気泳動粒子を用いた電子ペーパーの開発
 (財)化学技術戦略推進機構、*千葉大学  春原聖司、北村孝司*
ポスター発表ノンストッププレゼンテーション(11:30-12:20)座 長  吉川 正紀三木 隆司
p-1赤色ならびに黒色を呈する2,9-ジクロロキナクリドンの結晶多形
 横浜国立大学  西村直子、千住孝俊、水口仁
p-2シリンドリカルレンズによる集光光学系を用いた有機薄膜面内のキャリア移動度測定
 大阪大学  堀井照詞、長山智男、横山正明
p-3導電性トナー雲の開口電極による制御特性
 日本工業大学  呉虹、関俊紀、周曄、星野坦之
p-4電気泳動粒子の直接観察と電気泳動電流 (第一報)
 千葉大学  渡邊翔、北村孝司、中村佐紀子
p-5電気泳動ディスプレイの簡易作成方法
 株式会社巴川製紙所、*日本工業大学  佐野隆之、星野担之*
p-6溶解ワックス中の酸化チタン粒子の電気泳動特性
 日本工業大学、*株式会社巴川製紙所  長谷川健、粂川竜章、佐野隆之*、星野坦之
p-7電極間中の各粒子の運動の観察
 日本工業大学  Shirley Manoj Somasiri、周曄、Ketepe Kankanamalage Chamili Kumara、関俊紀、星野坦之
p-8高密度指向性表示を用いた三次元プリントの検討
 東京農工大学、*大日本印刷株式会社  坂本祥、高木 康博、山嵜秀城*
p-9平面対向電極を有する有機半導体のTime of Flight過渡光電流の解析
 大阪府立大学  吉川威雄、宮澤達徳、鈴木裕一郎、小林隆史、内藤裕義
p-10光沢むらを考慮した主観的光沢度測定方法
 富士ゼロックス株式会社  桑田良隆
p-11金色の認識機構の解明
 東海大学  小島聡、面谷信
p-12消去可能トナー用画像消去装置の開発
 株式会社東芝  高山暁、五反田武志、関口裕美子、佐野健二
オーサーズインタビュー(12:20-12:35) 
休 憩(12:35-13:10) 
ポスターセッション(13:10-14:10) 
日本画像学会技術賞受賞記念講演(14:10-14:50)座 長  中山 喜萬
a-1「面発光VCSELを用いた2400dpiレーザー露光装置の開発」
 富士ゼロックス株式会社  太田明、市川順一、池田周穂、植木伸明
a-2「電気二重層キャパシタ補助電源による省エネ定着技術」
 株式会社リコー  岸和人、佐藤直基、加藤泰久、岡本政已
休 憩(14:50-15:00) 
一般講演(15:00-16:40)座 長  内藤 裕義 高島 祐二
o-8静電マニピュレータによる粒子の捕捉と分離
 早稲田大学  安藤大樹、梅津信二郎、川本広行
o-9実効色域評価法
 富士ゼロックス株式会社  岸本康成、伊東昭博
o-10多視点同時撮影システムと化粧品への応用
 花王株式会社  美崎栄一郎、五十嵐崇訓、中尾啓輔、塩見浩之、鍋島博英
o-11酸化チタンの熱励起を利用したプラスチック分解システム
 横浜国立大学  松本圭司、牧野崇史、新原俊広、水口仁
o-12ピリジル環を有するペリレンイミド顔料の水素ガスセンサー
 横浜国立大学、*東洋インキ製造株式会社  水口仁、佐藤和之、高橋宏雄*、鈴木茂
閉会挨拶(16:40-16:45)実行委員長
オーサーズインタビュー(16:45-17:00)